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加氫反應控溫裝置-催化反應加熱冷卻系統(tǒng)

簡要描述:加氫反應控溫裝置-催化反應加熱冷卻系統(tǒng),應用于對玻璃反應釜、金屬反應釜、生物反應器進行升降溫、恒溫控制,尤其適合在反應過程中有需熱、放熱過程控制。解決化學醫(yī)藥工業(yè)用準確控溫的特殊裝置,用以滿足間歇反應器溫度控制或持續(xù)不斷的工藝進程的加熱及冷卻、恒溫系統(tǒng)。

  • 產品型號:SUNDI-320
  • 廠商性質:生產廠家
  • 更新時間:2025-01-10
  • 訪  問  量:673
詳情介紹
品牌LNEYA/無錫冠亞價格區(qū)間5萬-10萬
產地類別國產應用領域醫(yī)療衛(wèi)生,化工,生物產業(yè),石油,航空航天

<strong><strong><strong>實驗室高低溫循環(huán)裝置-反應釜制冷加熱機</strong></strong></strong> 

無錫冠亞冷熱一體機 

解決化學醫(yī)藥工業(yè)用準確控溫的特殊裝置, 

用以滿足間歇反應器溫度控制 

或持續(xù)不斷的工藝進程的加熱及冷卻、恒溫系統(tǒng)。 

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無錫冠亞冷熱一體機典型應用于:

高壓反應釜冷熱源動態(tài)恒溫控制、雙層玻璃反應釜冷熱源動態(tài)恒溫控制、

雙層反應釜冷熱源動態(tài)恒溫控制、微通道反應器冷熱源恒溫控制;

小型恒溫控制系統(tǒng)、蒸飽系統(tǒng)控溫、材料低溫高溫老化測試、

組合化學冷源熱源恒溫控制、半導體設備冷卻加熱、真空室制冷加熱恒溫控制。  

<strong><strong><strong>實驗室高低溫循環(huán)裝置-反應釜制冷加熱機</strong></strong></strong><strong><strong><strong>實驗室高低溫循環(huán)裝置-反應釜制冷加熱機</strong></strong></strong><strong><strong><strong>實驗室高低溫循環(huán)裝置-反應釜制冷加熱機</strong></strong></strong>

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加氫反應控溫裝置-催化反應加熱冷卻系統(tǒng)

加氫反應控溫裝置-催化反應加熱冷卻系統(tǒng)

  加氫反應控溫裝置在接通電源之前,先檢查銘牌上規(guī)定的電壓是否與家用電壓相同,相同方可使用要為加氫反應控溫裝置安排單獨的電源線路和使用插座,不能與其它電器合用同一插座,否則會造成不良事故,應安裝好接地裝置,再給加氫反應控溫裝置通電。

  加氫反應控溫裝置擺放在濕度較小的地方。

  加氫反應控溫裝置不應擺放重物或過多的雜物,特別是不能擺放其他電器,以免造成干擾。

  擺放在通風良好的地方。

  加氫反應控溫裝置背部應離墻10厘米以上,頂部應有30厘米以上的高度空間,四周不應放置過多的雜物。

  擺放在地面平穩(wěn)的地方。

  加氫反應控溫裝置的位置需平穩(wěn),否則當壓縮機啟動時會產生振動并發(fā)出很大的噪聲,長期如此會縮短歐雪加氫反應控溫裝置的使用壽命。

  遠離明火高溫。

  擺放在遠離火爐、暖氣片等熱源的地方,同時應避免陽光的直接照射。這樣有利于加氫反應控溫裝置的散熱。

用戶在運行加氫反應控溫裝置的時候,這些注意點前往不要忽視哦!

<strong><strong><strong><strong>冷熱循環(huán)機-20到60價格,加熱制冷機</strong></strong></strong></strong>

 

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