在很多場合都需要用到密閉循環(huán)工業(yè)用加熱一體機，特別是實驗室中，常見的工藝要求就是對反應釜進行控溫，使其中的物料進行反應。

　　1、全密閉高低溫循環(huán)裝置在工作中低溫流體介質通過管道在壓力作用下進入其輸入口，沿著電加熱容器內部特定換熱流道，運用流體熱力學原理設計的路徑，帶走電熱元件工作中所產(chǎn)生的高溫熱能量，使被加熱介質溫度升高，電加熱器出口得到工藝要求的高溫介質。

　　2、全密閉高低溫循環(huán)裝置采用電能轉換為熱能來對需加熱的物料進行加熱，制冷采用壓縮機可以迅速的升高或者降低使其達到設定的溫度，控制各種反應器的制冷、加熱溫度。

　　3、全密閉高低溫循環(huán)裝置加液與排空同時進行。在設備上方有設備進液口，排氣閥在設備側面，可用特殊的輔助工具插入一字孔，順時針閉合，逆時針打開。若是出現(xiàn)逆轉，則有可能導致循環(huán)泵損壞。

　　4、全密閉高低溫循環(huán)裝置當進行加液排空時，還需要注意防護措施，確保導熱介質符合系統(tǒng)要求，確保無沉淀、色澤和腐蝕性，若有少量的沉淀物應待其穩(wěn)定沉淀，當加上導熱介質時，不可將沉淀物加入系統(tǒng)。

　　5、全密閉高低溫循環(huán)裝置加注時要注意防止濺出，并時刻觀察設備側面的液位顯示窗口，防止溢出流入電器柜造成設備損壞和污染，加液前應檢查相關管道是否*開啟，設備排水口是否關閉。

　　6、全密閉高低溫循環(huán)裝置在加液排空時要注意，加液時逆時針打開密封蓋，插入漏斗注入導熱介質，加液至膨脹液位，排空時逆時針打開排氣閥，點擊設備觸摸屏主控頁上的排空按鈕，循環(huán)多次指導液排空后液位不在下降為止，此時表示已經(jīng)將內部的空氣基本排空，我們在運行排空加液大約半個小時候，關閉排氣閥門即可正常使用設備。

全密閉高低溫循環(huán)裝置常用于化工、醫(yī)藥行業(yè)以及實驗室的小型試驗等，分為不銹鋼反應釜和搪玻璃反應釜，玻璃鋼反應釜等，針對物料的不同所用到的工藝也不同，用戶可以根據(jù)實際情況，選擇合適的溫控裝置。